UPV/EHUk eta TECNALIAk atxikipen bikoitzeko 7 ikertzaile berri kontratatu ditu

0

2024ko urtarrilaren 26a. Euskal Herriko Unibertsitateak (EHU) eta TECNALIA ikerketa eta garapen teknologikoko zentroak sendotu egin dute ikertzaileen afiliazio bikoitzeko programa, sortu zutenetik laugarren urtean. Programa hau EHUren eta TECNALIAren arteko lankidetza-akordio estrategikoaren parte da, eta bi erakundeetan beren jarduera garatuko duten profilak prestatzea eta interes komuneko gaietan posizionamendua indartzea du xede.

Horrela, 2023an, atxikipen bikoitzeko 7 ikertzaile izendatu dira guztira, eta, 2024rako, zerrendan pertsona gehiago sartzea aurreikusten da, lankidetza-formula hori finkatzeko, ikertzaile berriak sartzeko topaketa batean aurkeztu duten bezala. Topaketa horretan, programaren balantzea egin dute eta datorren urterako helburuak planteatu dituzte.

Programa horretara afiliatuta dauden ikertzaileen artean, bost EHUkoak dira: Lola Boyano, Biologia Zelularreko katedraduna Medikuntza eta Erizaintza Fakultatean; José Luis Pedraz, Farmazia eta Teknologia Farmazeutikoko katedraduna Farmazia Fakultatean; Jesús María Blanco, Fluidoen Mekanika Saileko irakasle titularra eta Itsas Inguruneko Energia Berriztagarrien Masterraren arduraduna; José Luis Martín, Teknologia Elektronikoko katedraduna; eta José Tomás San José, Meatzaritza eta Metalurgia Ingeniaritza eta Materialen Zientzia Saileko irakasle titularra. Hiru azkenak Bilboko Ingeniaritza Eskolakoak dira.

Zentroaren aldetik, honako hauek dira atxikitako TECNALIAko kideak: Salvador Ceballos, Sareen Arloko ikertzaile nagusia eta Sistema Txertatuen eta Potentzia Elektronikaren arduraduna; eta José Antonio Chica, Trantsizio Energetiko, Klimatiko eta Urbanoaren Unitateko Eraldaketa Digitalaren ikertzaile arduraduna eta Europako Batzordeko DG GROWTHen «High Level Construction Forum initiative» ekimeneko kidea.

Eva Ferreira Euskal Herriko Unibertsitateko errektoreak adierazi duen bezala, «curriculum ona eta esperientzia aitortua duten ikertzaileen atxikipen bikoitza formula egokia da sinergiak adosteko eta ikerketaren emaitzetan eragin biderkatzailea lortzeko». Gainera, nabarmendu du akordio horrek langileei aukera ematen diela «Euskadiko ingurune teknologikoan eragin handiagoa duten ikerketak egiteko”.

Jesús Valero TECNALIAko zuzendari nagusiak, bestalde, honako hau azaldu du: «lankidetzaren aldeko apustua egin dugu berrikuntzaren eta talentuaren arloan, espezializazio- eta bikaintasun-tresna gisa. Horregatik, EHUren eta TECNALIAren arteko Esparru Akordio honetan oinarritu behar dugu erakunde bakoitzaren gaitasunak indartzeko eta ahalik eta aberastasun handieneko programak lortzeko, hala nola afiliazio bikoitz hori, EHUko ikerketako laguntzaile akademikoaren eta TECNALIAko ikertzaile elkartuaren figuren bidez «.

EHUri buruz

Euskal Herriko Unibertsitatea munduko 500 unibertsitate onenen artean dago, Shangaiko sailkapenaren arabera. Graduko eta graduondoko 43.000 ikasle baino gehiago ditu, eta 7.400 langile inguru, zerbitzua emateko goi-mailako hezkuntzan, ikerketan eta transferentzian. EAEko ikerketa-agente nagusia da.

TECNALIAri buruz

TECNALIA Espainiako ikerketa aplikatuko eta garapen teknologikoko zentro handiena da, Europako erreferentzia eta Basque Research and Technology Alliance-ko kide. Enpresa eta erakundeekin elkarlanean aritzen da, lehiakortasuna eta pertsonen bizi-kalitatea hobetzeko eta hazkunde jasangarria lortzeko. Horretarako, 1.500 lagunetik gorako lantalde bat dauka, ikerketa teknologikoaren eta berrikuntzaren bidez mundu hobea eraikitzeko konpromisoa hartu duena. Horregatik, TECNALIAren ikerketak benetako eragina du gizartean, eta onurak sortzen ditu bizi-kalitatean eta aurrerabidean.  Hauek ditu jarduera-eremu nagusiak: fabrikazio adimenduna, eraldaketa digitala, trantsizio energetikoa, mugikortasun jasangarria, osasuna eta elikadura, hiri-ekosistema eta ekonomia zirkularra. European Research Survey ERSk ospeari eta posizionamenduari buruz egindako azken azterketan (2022an egina da), TECNALIA lehen postuan ageri da I+G+Ban markak duen ospeari dagokionez.